MBソリューションズ株式会社

SRTF-302LP

SRTF-302LP

SRTF-302LP

枚葉式高速熱処理炉
(SRTF: Single Wafer Rapid Thermal Furnace)
※写真はSRTF-200LPになっています。

●結晶スリップは、ゼロ!
●すばらしい均一性と再現性!
●処理能力は、ランプ式高速加熱と同等
●低消費電力:平均15kw(1100℃熱処理にて)
●低メンテナンスコスト!(1回・年)
●消耗品ゼロ!

WaferMasters

SRTF-302LP: プロセスチャンバーの概要

SRTF-302LP

●恒温キャビティー環境下に、ことごとく近い
●3ゾーンのブロックで熱コントロール
●TCからのFeedbackで熱コントロール
●Waferは、無回転
●ランプ無し
●高い再現性

SRTF-302LP装置のウエハ昇温特性

SRTF-302LP

●No Wafer Temperature Monitor or Control
●No Ramp Up/Ramp Down Rate Control
●Natural Ramp Up, Stabilization and Ramp Down
(温度冷却時の温度安定がKEY)
●No Wafer Rotation
●Extremely Repeatable Process

熱処理プロセス中のウエハの一時変形と復元の様子(ダメージはありません。)

SRTF-302LP

SRTF-302LP: Single Wafer Rapid Annealing Furnace

SRTF-302LP

●Single Wafer Annealing under O2
 Controlled Environment (100oC~1100oC)
●Dual Chamber Configuration
●No Lamps
●Low Maintenance
●High Repeatability
●High Stability
●Small Footprint
●Low Power Consumption
●Self Contained System
●No Other Facility Required

Key Advantages of Isothermal Process Chamber Design

●Simple & High Reliability Design: No wafer rotation & no moving parts
●Extremely Uniform & Repeatable Process: Isothermal cavity stays at process temp.
●Low Power Consumption: <15kW at 1050oC for 2 chambers
●Low Maintenance: MTBF >5,000hrs, annual PM
●Low Cost of Ownership & Consumables: Small footprint & no consumables
SRTF-302LP

System Layout

SRTF-302LP

Comparisons between RTP Systems

SRTF-302LP

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